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制造技术
制造 >镀膜


DWDM
入射角0度
λ=400-540nm Tave <1% λ=560-650nm Tave <2 548-552nm="" tave="">95%
中心波长 T=50%点 λ=548±3nm λ=552±3nm


UV-IR
入射角0度
λ=350-400nm Tave <1 445-500nm="" tave="">92%
T10%-90% 斜率小于25nm
λ=615-680nm Tmin>94% λ=730-900nm Tave <3% T10%-90% 斜率小于35nm
中心波长T=50% λ=413±5nm λ=710±12nm


MIRROR
波长范围 入射角
400nm-700nm 55度 R绝对>94% R平均>98%
400nm-700nm 60度 R绝对>94% R平均>98%
400nm-700nm 70度 R绝对>94% R平均>97%


BBAR
入射角0度
λ=400-750nm R(平均)<0.3% λ=400-750nm R(最大)<0.5%


渐变滤光片


宽角度 IR-CUT
入射角0度
λ=421-430nm T>80% λ=431-710nm T>85%
λ=761-1000nm T<3% λ=1001-1050nm T<6% λ=1051-1080nm T<10%
中心波长T=50% λ=730±10nm


UV 滤光片
入射角0度
λ=300-385nm Tave <0.25% λ=405nm Tmin <10%
中心波长 T=50%点 λ=413±5nm
λ=428+0/-10nm Tmin>96% λ=438+0/-10nm Tmin>98%
λ=443-683nm Tmin >97% λ=423-700nm Tave >98%


限波滤光片
入射角0度
λ=350-390nm Tave <1 425-475nm="" tave="">93% T10%-90% 斜率小于25nm
50%<488-495nm<70 530-565nm="" tmin="">93%
30%<585-593nm<50 625-695nm="" tave="">94%
T10%-90% 斜率小于35nm
中心波长T=50% λ=410±5nm λ=708±12nm


分光片
入射角45度
λ=400-700nm R:T =5:5


三通滤光片
入射角0度
λ=386-405nm Tave <1 5="" 424-430nm="" tave="">93% T10%-90% 斜率小于25nm
λ=450-470nm Tave <1 498-510nm="" tmin="">93%
λ=545-560nm Tave <1 5="" 590-615nm="" tave="">94%
T10%-90% 斜率小于35nm
中心波长T=50% λ=415±5nm λ=623±9nm

SHINCRON 磁控溅射镀膜机
世界第二台,中国第一台,第三代光学磁控溅射镀膜机。
·连续生产中(20罩以上)分光曲线飘移量在2nm之内。
·膜层环境耐受性是一般离子源镀膜机的3倍。
·特殊的膜层控制工艺可以安定的实现8nm薄层镀膜。
·可以安定的实现中间折射率的加工。
·表面硬度 9H。
·膜层致密度是一般的两倍。


SHINCRON 离子辅助镀膜机
·第四代光控(opm1)+晶控式的高精度控制
·第五代高能量射频离子源
·270度日本电子枪

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